Laser fired contacts on amorphous silicon deposited by hot-wire cvd on crystalline silicon
Visualitza/Obre
LASER FIRED CONTACTS ON AMORPHOUS SILICON DEPOSITED BY HOT-WIRE CVD ON CRYSTALLINE SILICON.pdf (552,3Kb) (Accés restringit)
Sol·licita una còpia a l'autor
Què és aquest botó?
Aquest botó permet demanar una còpia d'un document restringit a l'autor. Es mostra quan:
- Disposem del correu electrònic de l'autor
- El document té una mida inferior a 20 Mb
- Es tracta d'un document d'accés restringit per decisió de l'autor o d'un document d'accés restringit per política de l'editorial
10.4229/23rdEUPVSEC2008-2CV.4.21
Inclou dades d'ús des de 2022
Cita com:
hdl:2117/343727
Tipus de documentText en actes de congrés
Data publicació2008
EditorWIP Wirtschaft und Infrastruktur GmbH & Co. Planungs-KG
Condicions d'accésAccés restringit per política de l'editorial
Tots els drets reservats. Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i
industrial corresponents. Sense perjudici de les exempcions legals existents, queda prohibida la seva
reproducció, distribució, comunicació pública o transformació sense l'autorització del titular dels drets
Abstract
In this work we study aluminium laser-fired contacts for intrinsic amorphous silicon layers deposited by Hot-Wire CVD. This structure could be used as an alternative low temperature back contact for rear passivated heterojunction solar cells. An infrared Nd:YAG laser (1064 nm) has been used to locally fire the aluminium through thin amorphous silicon passivating layers. We discuss here the optimization of the laser firing parameters, very low specific contact resistances (up to rc= 4,6 mW.cm2) have been obtained on 2.8 W·cm p-type c-Si wafers but with a strong damage of the sample. While for a set of optimized laser conditions we obtain a low specific contact resistance (rc= 12,2 mW.cm2) with a low damage rate (19,96 %). Moreover this investigation focuses on maintaining the passivation quality of the interface
CitacióBlanque, S. [et al.]. Laser fired contacts on amorphous silicon deposited by hot-wire cvd on crystalline silicon. A: European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition. "23rd European Photovoltaic Solar Energy Conference: Valencia, Spain: 1-5 september, 2008: proceedings". WIP Wirtschaft und Infrastruktur GmbH & Co. Planungs-KG, 2008, p. 1393-1396. ISBN 3-936338-24-8. DOI 10.4229/23rdEUPVSEC2008-2CV.4.21.
ISBN3-936338-24-8
Versió de l'editorhttps://www.eupvsec-proceedings.com/proceedings?fulltext=Fire&paper=2682
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
---|---|---|---|---|
LASER FIRED CON ... ON CRYSTALLINE SILICON.pdf | 552,3Kb | Accés restringit |