Este proyecto tiene como objetivo fabricar estructuras de níquel utilizando
silicio macroporoso como molde. La aplicación inicial de estas estructuras es el diseño
y fabricación de cristales fotónicos de níquel.
Para cumplir con el objetivo, se han caracterizado los procesos de fabricación
de silicio macroporoso 2D, silicio macroporoso modulado en profundidad y silicio
macroporoso 3D.
También se ha realizado la caracterización del crecimiento de níquel en medios
porosos, utilizando alúmina porosa. El proceso elegido para crecer níquel es el
electrodepósito.
En el tratamiento de las estructuras, se han utilizado tecnologías de fabricación
de microsistemas, tales como micromecanizado de superficie (evaporación, oxidación,
RIE), micromecanizado de volumen (ataque isotrópico, HF y anisotrópico, KOH).
Luego se ha rellenado las estructuras de silicio macroporoso con níquel y se ha
demostrado que es posible fabricar estructuras positivas y negativas de níquel en 2D,
moduladas en profundidad y 3D. Para las estructuras positivas se ha utilizado
polydimetilsiloxano (PDMS) como material sacrificial. También se han fabricado
estructuras negativas de polydimetilsiloxano.
Las estructuras de silicio macroporoso se han fabricado utilizando la tecnología
desarrollada en el Grupo de Micro y Nano Tecnologías del Departamento de Ingeniería
Electrónica de la UPC.
Para determinar su comportamiento como cristales fotónicos, se han realizado
medidas de reflexión en las estructuras fabricadas.
