Yield estimation model for lithography hotspot distortions

Imatge en miniatura
Visualitza/Obre
Article principal (102,2Kb) (Accés restringit)
Gómez Fernández, Sergio
Moll Echeto, Francisco de BorjaMés informacióMés informació
Tipus de documentArticle
Data publicació2013-08-15
EditorInstitution of Electrical Engineers
Condicions d'accésAccés restringit per política de l'editorial
Projecte de la Comissió Europea
SYNAPTIC - SYNthesis using Advanced Process Technology Integrated in regular Cells, IPs, architectures, and design platforms (EC-FP7-248538)
Abstract
CitacióGomez, S.; Moll, F. Yield estimation model for lithography hotspot distortions. "Electronics Letters", 15 Agost 2013, vol. 49, núm. 17, p. 1066-1068. 
URIhttp://hdl.handle.net/2117/20390
DOI10.1049/el.2013.0469
ISSN0013-5194
Versió de l'editorhttp://ieeexplore.ieee.org/xpl/articleDetails.jsp?arnumber=6583109
Col·leccions

FitxersDescripcióMidaFormatVisualitza
yield.pdfBlockedArticle principal102,2KbPDFAccés restringit
Llevat que s'hi indiqui el contrari, els continguts d'aquesta obra estan subjectes a la llicència de Creative Commons: Reconeixement-NoComercial-SenseObraDerivada 3.0 Espanya