Optimization of al2o3 films obtained by ald to passivate p-type c-silicon wafers
Visualitza/Obre
Lopez_Gema EU PVSEC 2012_Optimization of AI2O3_OKDrac.pdf (448,7Kb) (Accés restringit)
Sol·licita una còpia a l'autor
Què és aquest botó?
Aquest botó permet demanar una còpia d'un document restringit a l'autor. Es mostra quan:
- Disposem del correu electrònic de l'autor
- El document té una mida inferior a 20 Mb
- Es tracta d'un document d'accés restringit per decisió de l'autor o d'un document d'accés restringit per política de l'editorial
Estadístiques de LA Referencia / Recolecta
Inclou dades d'ús des de 2022
Cita com:
hdl:2117/17660
Tipus de documentText en actes de congrés
Data publicació2012
Condicions d'accésAccés restringit per política de l'editorial
Tots els drets reservats. Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i
industrial corresponents. Sense perjudici de les exempcions legals existents, queda prohibida la seva
reproducció, distribució, comunicació pública o transformació sense l'autorització del titular dels drets
CitacióLopez, G. [et al.]. Optimization of al2o3 films obtained by ald to passivate p-type c-silicon wafers. A: European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition. "27th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition: proceedings". Frankfurt: 2012, p. 1692-1695.
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
---|---|---|---|---|
Lopez_Gema EU P ... zation of AI2O3_OKDrac.pdf | 448,7Kb | Accés restringit |