Macroporous silicon: efficient antireflective layer on crystalline silicon
Visualitza/Obre
Macroporous silicon.pdf (669,8Kb) (Accés restringit)
Sol·licita una còpia a l'autor
Què és aquest botó?
Aquest botó permet demanar una còpia d'un document restringit a l'autor. Es mostra quan:
- Disposem del correu electrònic de l'autor
- El document té una mida inferior a 20 Mb
- Es tracta d'un document d'accés restringit per decisió de l'autor o d'un document d'accés restringit per política de l'editorial
Cita com:
hdl:2117/13577
Tipus de documentArticle
Data publicació2011-07
Condicions d'accésAccés restringit per política de l'editorial
Tots els drets reservats. Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i
industrial corresponents. Sense perjudici de les exempcions legals existents, queda prohibida la seva
reproducció, distribució, comunicació pública o transformació sense l'autorització del titular dels drets
Abstract
A macroporous silicon layer (ma-PS) electrochemically grown on crystalline silicon surface can be used as an efficient antireflective layer in optical devices as antireflection coating. In this work, we presented the ma-PS layers fabricated on crystalline silicon (c-Si) n-type and p +-type, obtained by electrochemical etching. The morphology, porosity, thickness of ma-PS layer can be adjusted by controlling the electrochemical formation conditions. The optical behaviour of the antireflective coating over the solar spectrum is determined, resulting in very low values of the normalized reflectivity coefficient (below ~1%). The reflectivity measurements were evaluated at 45° in the different samples of the ma-PS/c-Si.
CitacióFonthal, F.; Torres, I.; Rodriguez, A. Macroporous silicon: efficient antireflective layer on crystalline silicon. "Journal of materials science. Materials in electronics", Juliol 2011, vol. 22, núm. 7, p. 895-900.
ISSN0957-4522
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
---|---|---|---|---|
Macroporous silicon.pdf | 669,8Kb | Accés restringit |