Ir al contenido (pulsa Retorno)

Universitat Politècnica de Catalunya

    • Català
    • Castellano
    • English
    • LoginRegisterLog in (no UPC users)
  • mailContact Us
  • world English 
    • Català
    • Castellano
    • English
  • userLogin   
      LoginRegisterLog in (no UPC users)

UPCommons. Global access to UPC knowledge

Banner header
66.619 UPC academic works
You are here:
View Item 
  •   DSpace Home
  • Treballs acadèmics
  • Escola Tècnica Superior d'Enginyeria de Telecomunicació de Barcelona
  • Grau en Enginyeria Física (Pla 2011)
  • View Item
  •   DSpace Home
  • Treballs acadèmics
  • Escola Tècnica Superior d'Enginyeria de Telecomunicació de Barcelona
  • Grau en Enginyeria Física (Pla 2011)
  • View Item
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Dielectric metal dielectric antireflection plasmonic layers

Thumbnail
View/Open
TFG_Eloi_Ros_Costals.pdf (5,829Mb)
  View Usage Statistics
  LA Referencia / Recolecta stats
Cita com:
hdl:2117/107679

Show full item record
Ros Costals, EloiMés informacióMés informacióMés informació
Tutor / directorPuigdollers i González, JoaquimMés informacióMés informacióMés informació
Document typeBachelor thesis
Date2017-06
Rights accessOpen Access
Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
Except where otherwise noted, content on this work is licensed under a Creative Commons license : Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
Abstract
Dielectric/Metal/Dielectric structures using Transition Metal Oxides (TMOs) as a dielectric layer and very thin-film layers of metal will be fabricated and their opto-electrical properties evaluated. In particular, MoO3/Ag/MoO3, V2O5/Ag/V2O5 and WO3/Ag/WO3 structures will be fabricated by thermal evaporation in a high vacuum process. Their optical transmittance and electrical conductivity will be measured. Optimized DMD structure will be used as a Transparent Conductive Layer in crystalline silicon solar cells.
 
En este trabajo se fabricaran capas transparentes y conductoras basadas en interfaces dielectrico metal dielectrico. Además se usaran óxidos de metales de transición que funcionan como contacto selectivo en celdas de silicio cristalino. Finalmente se fabricarán unas celdas solares con estas estructuras para estudiar su funcionamiento.
 
En aquest treball es fabricaran capes transparents conductores basades en interficies dielectric metall dielectric. A més a més s'utilitzaran òxids de metall de transició com a capes dielectriques, que son coneguts contactes selectius en celes solars de silici cristalí. Per últim es fabricaran unes cél·lules solars per comprovar el funcionament amb aquesta estructura.
SubjectsSolar cells, Nanostructures -- Optical properties, Silicon, Cèl·lules solars, Nanoestructures -- Propietats òptiques, Silici
DegreeGRAU EN ENGINYERIA FÍSICA (Pla 2011)
Related documenthttp://infoteleco.upc.edu/incoming/pfc/126580/Eloi_Ros_TFG_Poster_ufftby.pdf
URIhttp://hdl.handle.net/2117/107679
Collections
  • Escola Tècnica Superior d'Enginyeria de Telecomunicació de Barcelona - Grau en Enginyeria Física (Pla 2011) [240]
  View Usage Statistics

Show full item record

FilesDescriptionSizeFormatView
TFG_Eloi_Ros_Costals.pdf5,829MbPDFView/Open

Browse

This CollectionBy Issue DateAuthorsOther contributionsTitlesSubjectsThis repositoryCommunities & CollectionsBy Issue DateAuthorsOther contributionsTitlesSubjects

© UPC Obrir en finestra nova . Servei de Biblioteques, Publicacions i Arxius

info.biblioteques@upc.edu

  • About This Repository
  • Contact Us
  • Send Feedback
  • Privacy Settings
  • Inici de la pàgina