Silicon Nanopillar Solar Cells Made by Near Field Phase-Shift Photolithography
Visualitza/Obre
Estadístiques de LA Referencia / Recolecta
Inclou dades d'ús des de 2022
Cita com:
hdl:2099.1/19688
Correu electrònic de l'autorignasi.canales.mundetgmail.com
Tutor / directorFontcuberta Morral, Anna
Tipus de documentProjecte/Treball Final de Carrera
Data2012
Condicions d'accésAccés obert
Llevat que s'hi indiqui el contrari, els
continguts d'aquesta obra estan subjectes a la llicència de Creative Commons
:
Reconeixement-NoComercial-SenseObraDerivada 3.0 Espanya
Abstract
A novel photolithographic technique which promises quick and easy large area patterning
is explored to satisfy the nanowire applications requirements. Nanohole patterns for ordered nanowire growth and nanopillar arrays for PV applications are produced by means of Near Field Phase-Shift Photolithography. Furthermore, solar cells based on silicon nanopillars have been fabricated showing high e ciencies. The quality of di erent passivating materials was evaluated in this particular approach, concluding that a double layer of SiO2/SiNx is the most appropriate.
Col·leccions
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
---|---|---|---|---|
Thesis_report_Ignasi_Canales.pdf | Report | 9,950Mb | Visualitza/Obre |