Micro and nanophotonic structures in the visible and near infrared spectral for optical devices
Visualitza/Obre
Estadístiques de LA Referencia / Recolecta
Inclou dades d'ús des de 2022
Cita com:
hdl:2099.1/19358
Tipus de documentProjecte Final de Màster Oficial
Data2013-09-10
Condicions d'accésAccés obert
Llevat que s'hi indiqui el contrari, els
continguts d'aquesta obra estan subjectes a la llicència de Creative Commons
:
Reconeixement-NoComercial-SenseObraDerivada 3.0 Espanya
Abstract
[ANGLÈS] This thesis present the simulation program for 1D photonic crystals and fabrication process of nano-structured optical devices based on porous silicon layers prepared by electrochemical etching method and the potential applications such as optical filters, microcavities. [CASTELLÀ] En esta tesis se presenta el programa de simulación de 1D cristalina fotónica y la fabricación de proceso de los dispositivos ópticos nanoestructurados basados en capas de silicio poroso preparadas por el método de grabado electroquímico y las posibles aplicaciones tales como filtros ópticos, microcavidades. [CATALÀ] En aquesta tesi es presenta el programa de simulació de 1D cristal·lina fotònica i la fabricació del procés dels dispositius òptics nanoestructurats basats en capes de silici porós preparades pel mètode de gravat electroquímic i les possibles aplicacions com ara filtres òptics, microcavitats.
Descripció
Treball final de màster oficial fet en col·laboració amb Universitat Autònoma de Barcelona (UAB), Universitat de Barcelona (UB) i Institut de Ciències Fotòniques (ICFO)
TitulacióMÀSTER UNIVERSITARI ERASMUS MUNDUS EN ENGINYERIA FOTÒNICA, NANOFOTÒNICA I BIOFOTÒNICA (Pla 2010)
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
---|---|---|---|---|
EUROPHOTONICS_Thesis_Nghiem Tan_final.pdf | 1,376Mb | Visualitza/Obre |