Mostra el registre d'ítem simple
Depósito y caracterización de capas de Teflón sobre Silicio para la realización de dispositivos EWOD
dc.contributor | Bermejo Broto, Sandra |
dc.contributor.author | Hernandez Coarasa, Antonio |
dc.contributor.other | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica |
dc.date.accessioned | 2011-06-20T10:11:14Z |
dc.date.available | 2011-06-20T10:11:14Z |
dc.date.issued | 2011-06-14 |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2099.1/12314 |
dc.description.abstract | Català: Estudi de diferents mètodes de dipòsit de tefló i el seu efecte sobre la funcionabilitat final d'un sistema basat en la tecnologia EWOD |
dc.description.abstract | Castellano: Estudio de diversos métodos de deposición del Teflón y su efecto sobre la funcionalidad final de un sistema basado en la tecnología EWOD |
dc.description.abstract | English: Study of various methods of deposition of Teflon and its effect on the final functionality of a system based on EWOD technology |
dc.language.iso | spa |
dc.publisher | Universitat Politècnica de Catalunya |
dc.rights | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain |
dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
dc.subject | Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria dels materials::Materials compostos |
dc.subject | Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Electrònica molecular |
dc.subject.lcsh | Nanostructure materials |
dc.subject.other | Teflon |
dc.subject.other | EWOD |
dc.subject.other | Electrowetting |
dc.subject.other | Teflón |
dc.subject.other | EWOD |
dc.subject.other | Electrowetting |
dc.subject.other | Electrònica |
dc.subject.other | Enginyeria electrònica |
dc.subject.other | Interferometria |
dc.subject.other | Microelectrònica |
dc.subject.other | Nanoestructures -- Propietats òptiques |
dc.subject.other | Silici |
dc.subject.other | Sistemes electrònics |
dc.subject.other | Sistemes òptics |
dc.title | Depósito y caracterización de capas de Teflón sobre Silicio para la realización de dispositivos EWOD |
dc.title.alternative | Deposition and characterization of Teflon layers over Silicon to develop EWOD devices |
dc.type | Master thesis (pre-Bologna period) |
dc.subject.lemac | Materials nanoestructurals |
dc.identifier.slug | ETSETB-230.76644 |
dc.rights.access | Open Access |
dc.date.updated | 2011-06-17T06:01:33Z |
dc.audience.educationlevel | Estudis de primer/segon cicle |
dc.audience.mediator | Escola Tècnica Superior d'Enginyeria de Telecomunicació de Barcelona |
dc.audience.degree | ENGINYERIA ELECTRÒNICA (Pla 1992) |