Evaluación de las variaciones de proceso litográficas en circuitos integrados

Bosacoma Sesma, Alex

dc.contributor	Moll Echeto, Francisco de Borja
dc.contributor.author	Bosacoma Sesma, Alex
dc.contributor.other	Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica
dc.date.accessioned	2010-12-03T11:47:05Z
dc.date.available	2010-12-03T11:47:05Z
dc.date.issued	2010
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/2099.1/10424
dc.description.abstract	El objetivo del proyecto es evaluar las variaciones de procedo sistemáticas en las longitudes de canal del transistor. Estas variaciones afectan a la respuesta esperada del circuito modificando la energía consumida y sus retardos, viéndose afectando el yield en los procesos de fabricación
dc.language.iso	spa
dc.publisher	Universitat Politècnica de Catalunya
dc.rights	Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
dc.subject	Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Circuits electrònics
dc.subject.lcsh	Integrated circuits
dc.subject.other	Proximity effect
dc.subject.other	Coma effect
dc.subject.other	Lens aberration
dc.subject.other	Flare
dc.title	Evaluación de las variaciones de proceso litográficas en circuitos integrados
dc.type	Master thesis (pre-Bologna period)
dc.subject.lemac	Circuits integrats
dc.rights.access	Open Access
dc.audience.educationlevel	Estudis de primer/segon cicle
dc.audience.mediator	Escola Tècnica Superior d'Enginyeria de Telecomunicació de Barcelona
dc.audience.degree	ENGINYERIA DE TELECOMUNICACIÓ (Pla 1992)