Fabricacion y caracterizacion de guias opticas integradas sobre sustratos de silicio

Carregant...
Miniatura
El pots comprar en digital a:
El pots comprar en paper a:

Projectes de recerca

Unitats organitzatives

Número de la revista

Títol de la revista

ISSN de la revista

Títol del volum

Col·laborador

Editor

Tribunal avaluador

Realitzat a/amb

Tipus de document

Text en actes de congrés

Data publicació

Editor

Condicions d'accés

Accés obert

item.page.rightslicense

Creative Commons
Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i industrial corresponents. Llevat que s'hi indiqui el contrari, els seus continguts estan subjectes a la llicència de Creative Commons: Reconeixement-NoComercial-SenseObraDerivada 3.0 Espanya

Assignatures relacionades

Assignatures relacionades

Publicacions relacionades

Datasets relacionats

Datasets relacionats

Projecte CCD

Abstract

Silicon nitride (Si 3 N4 ) planar optical waveguides have been successfully grown by lowpressure chemical vapor deposition (LPCVD). Silicon p-type wafers with a (100) orientation were used as substrates, and the Si3 N4 was separated from the lossy Si substrate by a thermally grown SiO2 thin film.

Descripció

Persones/entitats

Document relacionat

Versió de

Citació

Torner, L., Alcubilla, R., Calderer, J. Fabricacion y caracterizacion de guias opticas integradas sobre sustratos de silicio. A: Simposium Nacional de la Unión Científica Internacional de Radio. "VI Simposium Nacional de la Unión Científica Internacional de Radio. URSI 1991". Caceres: 1991, p. 1145-1149.

Ajut

Forma part

DOI

Dipòsit legal

ISBN

84-600-7766-7

ISSN

Altres identificadors

Referències