Doping-mediated stabilization of copper vacancies to promote thermoelectric properties of Cu2-xS

Carregant...
Miniatura
El pots comprar en digital a:
El pots comprar en paper a:

Projectes de recerca

Unitats organitzatives

Número de la revista

Títol de la revista

ISSN de la revista

Títol del volum

Col·laborador

Editor

Tribunal avaluador

Realitzat a/amb

Tipus de document

Article

Data publicació

Editor

Condicions d'accés

Accés obert

item.page.rightslicense

Creative Commons
Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i industrial corresponents. Llevat que s'hi indiqui el contrari, els seus continguts estan subjectes a la llicència de Creative Commons: Reconeixement-NoComercial-SenseObraDerivada 3.0 Espanya

Assignatures relacionades

Assignatures relacionades

Publicacions relacionades

Datasets relacionats

Datasets relacionats

Projecte CCD

Abstract

Copper chalcogenides are outstanding thermoelectric materials for applications in the medium-high temperature range. Among different chalcogenides, while Cu2-xSe is characterized by higher thermoelectric figures of merit, Cu2-xS provides advantages in terms of low cost and element abundance. In the present work, we investigate the effect of different dopants to enhance the Cu2-xS performance and also its thermal stability. Among the tested options, Pb-doped Cu2-xS shows the highest improvement in stability against sulfur volatilization. Additionally, Pb incorporation allows tuning charge carrier concentration, which enables a significant improvement of the power factor. We demonstrate here that the introduction of an optimal additive amount of just 0.3% results in a threefold increase of the power factor in the middle-temperature range (500–800 K) and a record dimensionless thermoelectric figure of merit above 2 at 880 K.

Descripció

Persones/entitats

Document relacionat

Versió de

Citació

Zhang, Y. [et al.]. Doping-mediated stabilization of copper vacancies to promote thermoelectric properties of Cu2-xS. "Nano Energy", 1 Juliol 2021, vol. 85, núm. 105991, p. 105991:1-105991:9.

Ajut

Forma part

Dipòsit legal

ISBN

ISSN

2211-2855

Altres identificadors

Referències