• Bromine etching of kesterite thin films: perspectives in depth defect profiling and device performance improvement 

      Tiwari, Kunal Jogendra; Jiménez Arguijo, Alex; Giraldo, Sergio; Placidi, Marcel Jose; Calvo-Barrio, L; Fonoll Rubio, Robert; Izquierdo Roca, Víctor; Sánchez González, Yudania; Perez Rodriguez, Alejandro; Saucedo Silva, Edgardo Ademar; Jehl Li-Kao, Zacharie (Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2021)
      Text en actes de congrés
      Accés restringit per política de l'editorial
      Using a controlled bromine etching on kesterite absorbers, two major results are obtained. We establish the first defect depth profiling and secondary phases depth profiling of a state of the art Cu2ZnSnSe4 (CZTSe) film ...
    • Mejora de un instrumento de medida del tiempo de vida de los portadores en el silicio cristalino 

      Portocarrero Ancasi, Vanessa (Universitat Politècnica de Catalunya, 2007-09-19)
      Projecte/Treball Final de Carrera
      Accés obert
      En las últimas décadas, el silicio ha revolucionado nuestra vida cotidiana. El origen de esta revolución se debe en parte al abaratamiento de las técnicas de obtención de silicio cristalino de alta calidad. Dicha calidad ...
    • Twisted electrons as an imaging tool for probing chiral molecules in strong field ionization 

      Barcons Planas, Xavier (Universitat Politècnica de Catalunya, 2021-09-08)
      Projecte Final de Màster Oficial
      Accés obert
      Realitzat a/amb:   Universitat Autònoma de Barcelona / Universitat de Barcelona
      Orbital angular momentum (OAM) carried by vortex beams has seen an explosion of interest across fields and this is particularly true in attosecond physics. Given that twisted electrons have been shown to be sensitive to ...