Browsing by Subject "Chemical vapor deposition"
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A new CVD diamond mosaic-detector for (n, a) cross-section measurements at the n_TOF experiment at CERN
(2013-08-02)
Article
Restricted access - publisher's policyAt then_TOFexperimentatCERNadedicatedsingle-crystalchemicalvapordeposition(sCVD)Diamond Mosaic-Detectorhasbeendevelopedfor(n,α) cross-sectionmeasurements.Thedetector,characterized by anexcellenttimeandenergyresolution, ... -
Caracterización estructural y mecánica a escala nanométrica de recubrimientos de función gradiente de mullita depositados sobre SiC
(Universitat Politècnica de Catalunya, 2010-06)
Master thesis (pre-Bologna period)
Open AccessLos recubrimientos de función gradiente de mullita (3Al2O3·2SiO2) depositados sobre SiC mediante la técnica CVD (chemical vapor deposition) son efectivos como protección de dicho sustrato frente a altas temperaturas así ... -
Cluster analysis of 4-day back trajectories arriving in the Barcelona Area, Spain, from 1997 to 2002
(2004-06)
Article
Open AccessStructural parameters for chemisorption of atomic carbon above a Si(100) surface have been obtained through a Si35H 32 cluster model and a MINDO/3 hamiltonian. The most stable position has been found to be the bridge one ... -
Effect of buffer layer on minority carrier lifetime and series resistance of bifacial heterojunction silicon solar cells analyzed by impedance spectroscopy
(2006-07)
Article
Restricted access - publisher's policyBy combining information on solar cell layer structure and electrical response analyzed by impedance spectroscopy, relevant knowledge is obtained about photogenerated carriers recombination and extraction. The inclusion ... -
El Grafeno. Parte II: procesos y viabilidad de su producción
(2015-07)
Article
Open AccessAnte el descubrimiento del grafeno, un material con propiedades de gran interés tecnológico, la industria busca optimizar sus mecanismos de producción con el objetivo de abordar un mercado para el cual se prevé un gran ... -
Impact of temperature on chlorine contamination and segregation for Ti(C,N) CVD thin hard coating studied by nano-SIMS and atom probe tomography
(2022-02-01)
Article
Open AccessHigh resolution characterization by Atom Probe Tomography (APT) and Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) imaging were combined to highlight the nature of chlorine contamination and impact of deposition temperature for ... -
Influencia de la naturaleza química y técnica de deposición de capas duras en el comportamiento a fatiga por contacto de sistemas recubiertos
(Universitat Politècnica de Catalunya, 2011-02)
Master thesis (pre-Bologna period)
Restricted access - author's decisionEn las herramientas de conformado la fatiga por contacto es uno de los principales mecanismos de daño. La aplicación de cargas sucesivas y concentradas sobre un material crea tensiones locales que pueden alcanzar valores ... -
Propiedades del Silicio Amorfo y Microcristalino (Estudio para la optimización de las condiciones de depósito en un reactor de HWCVD)
(Universitat Politècnica de Catalunya, 2013-05)
Master thesis (pre-Bologna period)
Open AccessEl principal objetivo del proyecto consiste en optimizar las condiciones de depósito de silicio amorfo y micro-cristalino en un nuevo reactor de depósito químico en fase vapor activado por filamento caliente (HWCVD). El ...
