Measurements of process variability in 40-nm regular and nonregular layouts
Visualitza/Obre
Measurements of Process Variability in 40-nm Regular and Nonregular Layouts (1,321Mb) (Accés restringit)
Sol·licita una còpia a l'autor
Què és aquest botó?
Aquest botó permet demanar una còpia d'un document restringit a l'autor. Es mostra quan:
- Disposem del correu electrònic de l'autor
- El document té una mida inferior a 20 Mb
- Es tracta d'un document d'accés restringit per decisió de l'autor o d'un document d'accés restringit per política de l'editorial
Cita com:
hdl:2117/22068
Tipus de documentArticle
Data publicació2014-02-01
Condicions d'accésAccés restringit per política de l'editorial
Llevat que s'hi indiqui el contrari, els
continguts d'aquesta obra estan subjectes a la llicència de Creative Commons
:
Reconeixement-NoComercial-SenseObraDerivada 3.0 Espanya
Abstract
As technology scales down, IC design is becoming more difficult due to the increase in process variations, which translates into a dispersion of circuit parameter values thus degrading manufacturing yield. Regular layouts are recommended to reduce variability with the cost of area overhead with respect to conventional layouts. The aim of this paper is to measure the impact of variability in two implementations of the same circuit in a commercial 40-nm technology: 1) a regular layout style and a compact and 2) nonregular layout. Experimental results show a 60% reduction in variability with a cost of 60% area overhead.
CitacióMauricio, J.; Moll, F.; Gomez, S. Measurements of process variability in 40-nm regular and nonregular layouts. "IEEE transactions on electron devices", 01 Febrer 2014, vol. 61, núm. 2, p. 365-371.
ISSN0018-9383
Versió de l'editorhttp://ieeexplore.ieee.org/xpl/articleDetails.jsp?arnumber=6691935
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
---|---|---|---|---|
Measurements of ... and Nonregular Layouts.pdf | Measurements of Process Variability in 40-nm Regular and Nonregular Layouts | 1,321Mb | Accés restringit |