Mostra el registre d'ítem simple
Process variability in sub-16nm bulk CMOS technology
dc.contributor.author | Rubio Sola, Jose Antonio |
dc.contributor.author | Figueras Pàmies, Joan |
dc.contributor.author | Vatajelu, Elena Ioana |
dc.contributor.author | Canal Corretger, Ramon |
dc.contributor.other | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Arquitectura de Computadors |
dc.contributor.other | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica |
dc.date.accessioned | 2012-03-26T18:45:53Z |
dc.date.available | 2012-03-26T18:45:53Z |
dc.date.created | 2012-03-01 |
dc.date.issued | 2012-03-01 |
dc.identifier.citation | Rubio, J. [et al.]. "Process variability in sub-16nm bulk CMOS technology". 2012. |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2117/15667 |
dc.description.abstract | The document is part of deliverable D3.6 of the TRAMS Project (EU FP7 248789), of public nature, and shows and justifies the levels of variability used in the research project for sub-18nm bulk CMOS technologies. |
dc.format.extent | 11 p. |
dc.language.iso | eng |
dc.relation.ispartofseries | EEL-121 |
dc.subject | Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Circuits integrats |
dc.subject.lcsh | Integrated circuits. |
dc.title | Process variability in sub-16nm bulk CMOS technology |
dc.type | External research report |
dc.subject.lemac | Circuits integrats |
dc.contributor.group | Universitat Politècnica de Catalunya. HIPICS - Grup de Circuits i Sistemes Integrats d'Altes Prestacions |
dc.contributor.group | Universitat Politècnica de Catalunya. ARCO - Microarquitectura i Compiladors |
dc.contributor.group | Universitat Politècnica de Catalunya. QINE - Disseny de Baix Consum, Test, Verificació i Circuits Integrats de Seguretat |
dc.rights.access | Open Access |
local.identifier.drac | 9879456 |
dc.description.version | Postprint (published version) |
dc.relation.projectid | info:eu-repo/grantAgreement/EC/FP7/248789/EU/TERASCALE RELIABLE ADAPTIVE MEMORY SYSTEMS/TRAMS |
local.citation.author | Rubio, J.; Figueras, J.; Vatajelu, E.; Canal, R. |
local.citation.publicationName | Process variability in sub-16nm bulk CMOS technology |
Fitxers d'aquest items
Aquest ítem apareix a les col·leccions següents
-
Reports de recerca [13]
-
Reports de recerca [54]
-
Reports de recerca [181]
-
Reports de recerca [9]
-
Reports de recerca [9]
-
Reports de recerca [15]