| Títol: | Macroporous silicon: efficient antireflective layer on crystalline silicon |
| Autor: | Fonthal Rico, Faruk
Torres, Ivaldo
Rodríguez Martínez, Ángel |
| Altres autors/autores: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica |
| Matèries: | Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica i telecomunicacions::Optoelectrònica
Silicon
Silici -- Propietats tèrmiques
Cristalls fotònics |
| Tipus de document: | Article |
| Descripció: | A macroporous silicon layer (ma-PS) electrochemically grown on crystalline silicon surface can be used as an efficient antireflective layer in optical devices as antireflection coating. In this work, we presented the ma-PS layers fabricated on crystalline silicon (c-Si) n-type and p +-type, obtained by electrochemical etching. The morphology, porosity, thickness of ma-PS layer can be adjusted by controlling the electrochemical formation conditions. The optical behaviour of the antireflective coating over the solar spectrum is determined, resulting in very low values of the normalized reflectivity coefficient (below ~1%). The reflectivity measurements were evaluated at 45° in the different samples of the ma-PS/c-Si. |
| Altres identificadors i accés: | Fonthal, F.; Torres, I.; Rodriguez, A. Macroporous silicon: efficient antireflective layer on crystalline silicon. "Journal of materials science. Materials in electronics", Juliol 2011, vol. 22, núm. 7, p. 895-900.
0957-4522
http://hdl.handle.net/2117/13577
10.1007/s10854-010-0232-6 |
| Disponible al dipòsit: | E-prints UPC
|
| Comparteix: |
|
Tots els ítems dipositats a UPCommons estan protegits per drets d'autor.
|
