Charge trapping control in MOS capacitors
Cita com:
hdl:2117/100877
Tipus de documentArticle
Data publicació2016-12-26
EditorInstitute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
Condicions d'accésAccés obert
Tots els drets reservats. Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i
industrial corresponents. Sense perjudici de les exempcions legals existents, queda prohibida la seva
reproducció, distribució, comunicació pública o transformació sense l'autorització del titular dels drets
Abstract
This paper presents an active control of C-V characteristic for MOS capacitors based on Sliding Mode control and sigma-delta-modulation. The capacitance of the device at a certain voltage is measured periodically and adequate voltage excitations are generated by a feedback loop to place the C-V curve at the desired target position. Experimental results are presented for a n-type c-Si MOS capacitor made with silicon dioxide. It is shown that with this approach it is possible to shift horizontally the C-V curve to the desired operation point. A physical analysis is also presented to explain how the C-V horizontal displacements can be linked to charge trapping in the bulk of the oxide and/or in the silicon-oxide interface. Finally, design criteria are provided for tuning the main parameters of the sliding mode controller.
CitacióDominguez, M., Bheesayagari, C., Gorreta, S., Lopez, G., Martin, I., Blokhina, E., Pons, J. Charge trapping control in MOS capacitors. "IEEE transactions on industrial electronics", 26 Desembre 2016, vol. PP, núm. 99, p. 1-7.
ISSN0278-0046
Versió de l'editorhttp://ieeexplore.ieee.org/document/7797504/
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
---|---|---|---|---|
TIEletter-MOS.v.4.0.1.pdf | 831,5Kb | Visualitza/Obre | ||
TIEletter-MOS.v.4.0.1.pdf | 831,5Kb | Visualitza/Obre |