Depósito y caracterización de capas de Teflón sobre Silicio para la realización de dispositivos EWOD
Visualitza/Obre
Estadístiques de LA Referencia / Recolecta
Inclou dades d'ús des de 2022
Cita com:
hdl:2099.1/12314
Tipus de documentProjecte/Treball Final de Carrera
Data2011-06-14
Condicions d'accésAccés obert
Llevat que s'hi indiqui el contrari, els
continguts d'aquesta obra estan subjectes a la llicència de Creative Commons
:
Reconeixement-NoComercial-SenseObraDerivada 3.0 Espanya
Abstract
Català: Estudi de diferents mètodes de dipòsit de tefló i el seu efecte sobre la funcionabilitat final d'un sistema basat en la tecnologia EWOD Castellano: Estudio de diversos métodos de deposición del Teflón y su efecto sobre la funcionalidad final de un sistema basado en la tecnología EWOD English: Study of various methods of deposition of Teflon and its effect on the final functionality of a system based on EWOD technology
TitulacióENGINYERIA ELECTRÒNICA (Pla 1992)
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
---|---|---|---|---|
PFC_ahercoa.pdf | 20,80Mb | Visualitza/Obre |