DSpace DSpace UPC
 Català   Castellano   English  

E-prints UPC >
Enginyeria electrònica i telecomunicacions >
RF&MW - Grup de Recerca de Sistemes, Dispositius i Materials de RF i Microones >
Articles de revista >

Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem: http://hdl.handle.net/2117/988

Arxiu Descripció MidaFormat
application of selctive.pdf288,69 kBAdobe PDFThumbnail
Veure/Obrir

Citació: James, P. M.; O'Callaghan, J. M.; Application of selective leaching in fabrication of thin film YBCO devices. IEEE Transactions on applied superconductivity, 1993, vol. 3, núm. 1, p. 2972-2974.
Títol: Application of selective leaching in fabrication of thin film ybco devices
Autor: James, P. M.; O'Callaghan Castellà, Juan Manuel Veure Producció científica UPC
Editorial: IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
Data: 1992
Tipus de document: Article
Resum: Ethylenediamine solutions have been shown to turn bulk YBCO into insulating materials. The effect of these solutions on thin YBCO films is studied. In both unpatterned and patterned films, a smooth decrease in critical currents, a transition to normal state, and a subsequent gradual increase in resistance are observed as a function of exposure time to the solution. It is noted that these characteristics might make this process desirable for weak-link and on-film resistor fabrication.
ISSN: 1051-8223
URI: http://hdl.handle.net/2117/988
Apareix a les col·leccions:RF&MW - Grup de Recerca de Sistemes, Dispositius i Materials de RF i Microones. Articles de revista
Departament de Teoria del Senyal i Comunicacions. Articles de revista
Comparteix:


Stats Mostra les estadístiques d'aquest ítem

SFX Query

Tots els drets reservats. Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i industrial corresponents. Sense perjudici de les exempcions legals existents, queda prohibida la seva reproducció, distribució, comunicació pública o transformació sense l'autorització del titular dels drets.

Per a qualsevol ús que se'n vulgui fer no previst a la llei, dirigiu-vos a: sepi.bupc@upc.edu

 

Valid XHTML 1.0! Programari DSpace Copyright © 2002-2004 MIT and Hewlett-Packard Comentaris
Universitat Politècnica de Catalunya. Servei de Biblioteques, Publicacions i Arxius