DSpace DSpace UPC
 Català   Castellano   English  

E-prints UPC >
Altres >
Enviament des de DRAC >

Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem: http://hdl.handle.net/2117/7150

Ítem no disponible en accés obert per política de l'editorial

Arxiu Descripció MidaFormat
3D metallo-dielectric structures.pdf913,81 kBAdobe PDF Accés restringit

Citació: Hernández, D. [et al.]. 3D metallo-dielectric structures combining electrochemical and electroplating techniques. "Microelectronic engineering", Juny 2010, vol. 87, núm. 5-8, p. 1458-1462.
Títol: 3D metallo-dielectric structures combining electrochemical and electroplating techniques
Autor: Hernández Díaz, David Veure Producció científica UPC; Lange, D.; Todorov Trifonov, Trifon Veure Producció científica UPC; Garin Escriva, Moises Veure Producció científica UPC; García Molina, Francisco Miguel Veure Producció científica UPC; Rodríguez Martínez, Ángel Veure Producció científica UPC; Alcubilla González, Ramón Veure Producció científica UPC
Data: jun-2010
Tipus de document: Article
Resum: Three-dimensional (3D) periodic nickel micro-structures with a periodicity of 4 μm and high number of structural periods were fabricated by electrodeposition. Macroporous silicon, consisting of periodic arrays of sine-wave modulated pores, was used as a deposition template. It was prepared by electrochemical etching of silicon and subsequent pore widening by multiple oxidation/oxide-removal steps. The pore widening allows to open windows between adjacent pores obtaining a 3D network of interconnected voids embedded in silicon. This structure is then void-free filled with nickel in the electroplating process. The combination of electrochemical etching and electroplating techniques opens a route for the fabrication of large-scale 3D-periodic metallic micro-structures.
ISSN: 0167-9317
URI: http://hdl.handle.net/2117/7150
DOI: 10.1016/j.mee.2009.11.108
Versió de l'editor: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=ArticleURL&_udi=B6V0W-4XSTCY1-5&_user=1517299&_coverDate=08%2F31%2F2010&_rdoc=1&_fmt=high&_orig=search&_sort=d&_docanchor=&view=c&_acct=C000053450&_version=1&_urlVersion=0&_userid=1517299&md5=9baaf09ec71b1ae789df67c7b2772bd3
Apareix a les col·leccions:MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies. Articles de revista
Departament d'Enginyeria Electrònica. Articles de revista
Altres. Enviament des de DRAC
Comparteix:


Stats Mostra les estadístiques d'aquest ítem

SFX Query

Tots els drets reservats. Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i industrial corresponents. Sense perjudici de les exempcions legals existents, queda prohibida la seva reproducció, distribució, comunicació pública o transformació sense l'autorització del titular dels drets.

Per a qualsevol ús que se'n vulgui fer no previst a la llei, dirigiu-vos a: sepi.bupc@upc.edu

 

Valid XHTML 1.0! Programari DSpace Copyright © 2002-2004 MIT and Hewlett-Packard Comentaris
Universitat Politècnica de Catalunya. Servei de Biblioteques, Publicacions i Arxius