DSpace DSpace UPC
 Català   Castellano   English  

E-prints UPC >
Altres >
Enviament des de DRAC >

Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem: http://hdl.handle.net/2117/6717

Arxiu Descripció MidaFormat
Advancesbaseline.pdf4.73 MBAdobe PDFThumbnail
Veure/Obrir

Citació: Ortega, P. [et al.]. Advances in a baseline process towards high efficiency c-Si solar cell fabrication. A: Spanish Conference on Electronics Devices. "7th Spanish Conference on Electronic Devices". Santiago de Compostela: IEEE Press. Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2009, p. 349-352.
Títol: Advances in a baseline process towards high efficiency c-Si solar cell fabrication
Autor: Alcubilla González, Ramón Veure Producció científica UPC; Ortega Villasclaras, Pablo Rafael Veure Producció científica UPC; López, G.; Martín García, Isidro Veure Producció científica UPC; Bermejo Broto, Sandra Veure Producció científica UPC; Blanqué, Servane Veure Producció científica UPC; García Molina, Francisco Miguel Veure Producció científica UPC; Orpella García, Alberto Veure Producció científica UPC; Voz Sánchez, Cristóbal Veure Producció científica UPC
Editorial: IEEE Press. Institute of Electrical and Electronics Engineers
Data: 11-feb-2009
Tipus de document: Conference report
ISBN: 978-1-4244-2839-7
Dipòsit legal: IEEE
URI: http://hdl.handle.net/2117/6717
Versió de l'editor: 10.1109/SCED.2009.4800504
Apareix a les col·leccions:Altres. Enviament des de DRAC
Departament d'Enginyeria Electrònica. Ponències/Comunicacions de congressos
MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies. Ponències/Comunicacions de congressos
Comparteix:


Stats Mostra les estadístiques d'aquest ítem

SFX Query

Queda prohibida la reproducció, transformació, distribució i comunicació pública d'aquesta obra. Es permet, en tot cas, la reproducció per a ús privat sempre i quan la còpia que se'n faci no sigui objecte d'utilització col·lectiva ni lucrativa (art. 31.2 del Reial Decret Legislatiu 1/1996, de 12 d'abril, pel qual s'aprova el Text Refós de la Llei de Propietat Intel·lectual, http://bibliotecnica.upc.es/sepi/legislacio.asp).

Per a qualsevol ús que es vulgui fer diferent al permès, dirigiu-vos a: sepi@upc.edu

 

Valid XHTML 1.0! Programari DSpace Copyright © 2002-2004 MIT and Hewlett-Packard Comentaris
Universitat Politècnica de Catalunya. Servei de Biblioteques, Publicacions i Arxius