|
E-prints UPC >
Altres >
Enviament des de DRAC >
Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem:
http://hdl.handle.net/2117/6292
|
| Citació: | Domingo , C. [et al.]. A study of etching conditions and resolution power of plastic detector CR-39. "Nuclear Tracks and Radiation Measurements", 1984, vol. 8, núm. 1-4, p. 17-20. |
| Títol: | A study of etching conditions and resolution power of plastic detector CR-39 |
| Autor: | Domingo Miralles, Carles; Ortega Girón, Manuel; Fernández Moreno, Francisco; Vidal-Quadras Roca, Alejo; Font Garcia, Josep Lluís  ; Baixeras Divar, Carmen; Casas Ametller, Montserrat |
| Editorial: | Pergamon Press |
| Data: | 1984 |
| Tipus de document: | Article |
| Resum: | Two Pershore Stacks (32 h cure cycle and 1% DOP and 96 h cure cycle and no additive) have been exposed to the Berkeley Bevalac Argon beam at 285 MeV/nuc and 425 MeV/nuc, respectively. Optimum previous termetching conditionsnext term have been found to be 70°C temperature and 18 h previous termetchingnext term time in 6.25 N OHNa aquaeous solution, corresponding to a mean bulk etch rate VB = (1.37±0.09) μm/h. The charge and mass previous termresolutionnext term power of the detector has been evaluated as ΔZ ≈ 0.3 e and ΔA ≈ 2 a.m.u.. |
| ISSN: | 0191-278X |
| URI: | http://hdl.handle.net/2117/6292 |
| Versió de l'editor: | doi:10.1016/0735-245X(84)90047-4 |
| Apareix a les col·leccions: | Altres. Enviament des de DRAC
Departament de Física i Enginyeria Nuclear. Articles de revista
DONLL - Dinàmica no lineal, òptica no lineal i làsers. Articles de revista
|
| Comparteix: |
|
Queda prohibida la reproducció, transformació, distribució i comunicació pública d'aquesta obra. Es permet, en tot cas, la reproducció per a ús privat sempre i quan la còpia que se'n faci no sigui objecte d'utilització col·lectiva ni lucrativa (art. 31.2 del Reial Decret Legislatiu 1/1996, de 12 d'abril, pel qual s'aprova el Text Refós de la Llei de Propietat Intel·lectual, http://bibliotecnica.upc.es/sepi/legislacio.asp).
Per a qualsevol ús que es vulgui fer diferent al permès, dirigiu-vos a: sepi@upc.edu
|
Català
Castellano
English
