|
E-prints UPC >
Enginyeria electrònica i telecomunicacions >
MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies >
Articles de revista >
Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem:
http://hdl.handle.net/2117/2442
|
Ítem no disponible en accés obert per política de l'editorial
| Arxiu |
Descripció |
Mida | Format |
| Molinero.pdf | | 159.09 kB | Adobe PDF |  |
|
| Citació: | Molinero, D.; Castañer, L. Comparison of air gap breakdown and substrate injection as mechanisms to induce dielectric charching in microelectromechanical switches. A: Applied Physics Letters, 2008, vol. 92, 043502. |
| Títol: | Comparison of air gap breakdown and substrate injection as mechanisms to induce dielectric charching in microelectromechanical switches |
| Autor: | Molinero Giles, David; Castañer Muñoz, Luis María  |
| Editorial: | American Institute of Physics |
| Data: | 12-jul-2007 |
| Tipus de document: | Article |
| Resum: | Experiments show that air breakdown and substrate carrier conduction can be responsible of the
dielectric charging of microelectromechanical devices after electrical stress. Test conducted under
vacuum allows us to isolate the two mechanisms. It is also shown that the relative importance of the
two mechanisms depends on the dielectric nature and technology. |
| ISSN: | 0003-6951 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2117/2442 |
| Versió de l'editor: | 10.1663/1.2837615 |
| Apareix a les col·leccions: | Departament d'Enginyeria Electrònica. Articles de revista MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies. Articles de revista
|
| Comparteix: |
|
Queda prohibida la reproducció, transformació, distribució i comunicació pública d'aquesta obra. Es permet, en tot cas, la reproducció per a ús privat sempre i quan la còpia que se'n faci no sigui objecte d'utilització col·lectiva ni lucrativa (art. 31.2 del Reial Decret Legislatiu 1/1996, de 12 d'abril, pel qual s'aprova el Text Refós de la Llei de Propietat Intel·lectual, http://bibliotecnica.upc.es/sepi/legislacio.asp).
Per a qualsevol ús que es vulgui fer diferent al permès, dirigiu-vos a: sepi@upc.edu
|