“Silicon millefeuille” : From a silicon wafer to multiple thin crystalline films in a single step
Visualitza/Obre
Cita com:
hdl:2117/20420
Tipus de documentArticle
Data publicació2013-04-29
Condicions d'accésAccés obert
Tots els drets reservats. Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i
industrial corresponents. Sense perjudici de les exempcions legals existents, queda prohibida la seva
reproducció, distribució, comunicació pública o transformació sense l'autorització del titular dels drets
Abstract
During the last years, many techniques have been developed to obtain thin crystalline films from commercial silicon ingots. Large market applications are foreseen in the photovoltaic field, where important cost reductions are predicted, and also in advanced microelectronics technologies as
three-dimensional integration, system on foil, or silicon interposers [Dross et al., Prog.
Photovoltaics 20, 770-784 (2012); R.Brendel, Thin Film Crystalline Silicon Solar Cells
(Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2003); J. N. Burghartz, Ultra-Thin Chip Technology and
Applications (Springer ScienceþBusiness Media, NY, USA, 2010)]. Existing methods produce “one at a time” silicon layers, once one thin film is obtained, the complete process is repeated to obtain the next layer. Here, we describe a technology that, from a single crystalline silicon wafer,
produces a large number of crystalline films with controlled thickness in a single technological step.
CitacióHernandez, D. [et al.]. “Silicon millefeuille” : From a silicon wafer to multiple thin crystalline films in a single step. "Applied physics letters", 29 Abril 2013, vol. 102, núm. 17, p. 1-4.
ISSN0003-6951
Versió de l'editorhttp://apl.aip.org/resource/1/applab/v102/i17/p172102_s1
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
---|---|---|---|---|
silicon.pdf | Article principal | 1,327Mb | Visualitza/Obre |