DSpace DSpace UPC
 Català   Castellano   English  

E-prints UPC >
Altres >
Enviament des de DRAC >

Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem: http://hdl.handle.net/2117/13577

Ítem no disponible en accés obert per política de l'editorial

Arxiu Descripció MidaFormat
Macroporous silicon.pdf669,88 kBAdobe PDF Accés restringit

Citació: Fonthal, F.; Torres, I.; Rodriguez, A. Macroporous silicon: efficient antireflective layer on crystalline silicon. "Journal of materials science. Materials in electronics", Juliol 2011, vol. 22, núm. 7, p. 895-900.
Títol: Macroporous silicon: efficient antireflective layer on crystalline silicon
Autor: Fonthal Rico, Faruk; Torres, Ivaldo; Rodríguez Martínez, Ángel Veure Producció científica UPC
Data: jul-2011
Tipus de document: Article
Resum: A macroporous silicon layer (ma-PS) electrochemically grown on crystalline silicon surface can be used as an efficient antireflective layer in optical devices as antireflection coating. In this work, we presented the ma-PS layers fabricated on crystalline silicon (c-Si) n-type and p +-type, obtained by electrochemical etching. The morphology, porosity, thickness of ma-PS layer can be adjusted by controlling the electrochemical formation conditions. The optical behaviour of the antireflective coating over the solar spectrum is determined, resulting in very low values of the normalized reflectivity coefficient (below ~1%). The reflectivity measurements were evaluated at 45° in the different samples of the ma-PS/c-Si.
ISSN: 0957-4522
URI: http://hdl.handle.net/2117/13577
DOI: 10.1007/s10854-010-0232-6
Versió de l'editor: http://www.ingentaconnect.com/content/klu/jmse/2011/00000022/00000007/00000232
Apareix a les col·leccions:Altres. Enviament des de DRAC
MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies. Articles de revista
Departament d'Enginyeria Electrònica. Articles de revista
Comparteix:


Stats Mostra les estadístiques d'aquest ítem

SFX Query

Tots els drets reservats. Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i industrial corresponents. Sense perjudici de les exempcions legals existents, queda prohibida la seva reproducció, distribució, comunicació pública o transformació sense l'autorització del titular dels drets.

Per a qualsevol ús que se'n vulgui fer no previst a la llei, dirigiu-vos a: sepi.bupc@upc.edu

 

Valid XHTML 1.0! Programari DSpace Copyright © 2002-2004 MIT and Hewlett-Packard Comentaris
Universitat Politècnica de Catalunya. Servei de Biblioteques, Publicacions i Arxius