|
E-prints UPC >
Altres >
Enviament des de DRAC >
Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem:
http://hdl.handle.net/2117/13277
|
| Citació: | Roppo, V. [et al.]. Third harmonic generation at 223 nm in the metallic regime of GaP. "Applied physics letters", 14 Març 2011, vol. 98, núm. 11, p. 1-3. |
| Títol: | Third harmonic generation at 223 nm in the metallic regime of GaP |
| Autor: | Roppo, Vito ; Foreman, John V.; Akozbek, N; Vincenti, M. A.; Scalora, M. |
| Data: | 14-mar-2011 |
| Tipus de document: | Article |
| Resum: | We demonstrate second and third harmonic generation from a GaP substrate 500 μm thick. The second harmonic field is tuned at the absorption resonance at 335 nm, and the third harmonic signal is tuned at 223 nm, in a range where the dielectric function is negative. These results show that a phase locking mechanism that triggers transparency at the harmonic wavelengths persists regardless of the dispersive properties of the medium, and that the fields propagate hundreds of microns without being absorbed even when the harmonics are tuned to portions of the spectrum that display
metallic behavior. |
| ISSN: | 0003-6951 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2117/13277 |
| Versió de l'editor: | 10.1063/1.3565240 |
| Versió de l'editor: | http://apl.aip.org/resource/1/applab/v98/i11/p111105_s1 |
| Apareix a les col·leccions: | Altres. Enviament des de DRAC Departament de Física i Enginyeria Nuclear. Articles de revista DONLL - Dinàmica no lineal, òptica no lineal i làsers. Articles de revista
|
| Comparteix: |
|
Queda prohibida la reproducció, transformació, distribució i comunicació pública d'aquesta obra. Es permet, en tot cas, la reproducció per a ús privat sempre i quan la còpia que se'n faci no sigui objecte d'utilització col·lectiva ni lucrativa (art. 31.2 del Reial Decret Legislatiu 1/1996, de 12 d'abril, pel qual s'aprova el Text Refós de la Llei de Propietat Intel·lectual, http://bibliotecnica.upc.es/sepi/legislacio.asp).
Per a qualsevol ús que es vulgui fer diferent al permès, dirigiu-vos a: sepi@upc.edu
|