|
E-prints UPC >
Altres >
Enviament des de DRAC >
Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem:
http://hdl.handle.net/2117/13159
|
Ítem no disponible en accés obert per política de l'editorial
| Arxiu |
Descripció |
Mida | Format |
| Molecular_Applied.pdf | | 473.81 kB | Adobe PDF |  |
|
| Citació: | Domínguez, J. [et al.]. Molecular ¿(2) gratings via electron-beam lithography. "Applied physics letters", Juliol 2010, vol. 36, núm. 7, p. 1-3. |
| Títol: | Molecular ¿(2) gratings via electron-beam lithography |
| Autor: | Domínguez Juárez, Jorge Luis; Macovez, Roberto ; Gonzalez, M.U.; Martorell Pena, Jordi  |
| Data: | jul-2010 |
| Tipus de document: | Article |
| Resum: | We show that the nonlinear optical activity of an organic molecule may be quenched by electron irradiation. Exploiting this effect, we inscribe periodic χ(2) patterns in the molecular films by means of a scanning electron microscope. The second harmonic diffraction efficiency of the resulting χ(2) gratings is measured. The relative intensity of the diffraction orders observed agrees with the expectations for a sheet of nonlinear dipoles with a periodic modulation. No linear diffraction is seen. The present method allows realizing any type of two-dimensional χ(2) pattern with a resolution only limited by the electron beam patterning capabilities. |
| ISSN: | 0003-6951 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2117/13159 |
| Versió de l'editor: | 10.1063/1.3464161 |
| Apareix a les col·leccions: | Altres. Enviament des de DRAC Departament de Física i Enginyeria Nuclear. Articles de revista GCM - Grup de Caracterització de Materials. Articles de revista DONLL - Dinàmica no lineal, òptica no lineal i làsers. Articles de revista
|
| Comparteix: |
|
Aquest ítem (excepte textos i imatges no creats per l'autor) està subjecte a una llicència de Creative Commons Llicència Creative Commons
|