DSpace DSpace UPC
 Català   Castellano   English  

E-prints UPC >
Altres >
Enviament des de DRAC >

Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem: http://hdl.handle.net/2117/10393

Arxiu Descripció MidaFormat
LithographyAwareRegularCell.pdf5,37 MBAdobe PDFThumbnail
Veure/Obrir

Citació: Gómez, S.; Moll, F. Lithography aware regular cell design based on a predictive technology model. A: European workshop on CMOS Variability. "The 1st European workshop on CMOS Variability". Montpellier: 2010.
Títol: Lithography aware regular cell design based on a predictive technology model
Autor: Gómez Fernández, Sergio Veure Producció científica UPC; Moll Echeto, Francisco de Borja Veure Producció científica UPC
Data: 2010
Tipus de document: Conference report
Resum: As semiconductor technology advances into the nanoscale era, optical effects such as channel narrowing, corner rounding or line-end pullback are critical to accomplish circuit yield specifications. It is well-demonstrated that layout regularity reduces the increasing impact of process variations on circuit performance and reliability. The purpose of this paper is to present the layout design of a regular cell based on 1-D elements which reduces lithography perturbations (ALARC). We depict several undesirable lithography effects and how these effects determine several layout parameters in order to achieve the required line-pattern resolution.
URI: http://hdl.handle.net/2117/10393
Apareix a les col·leccions:HIPICS - High Performance Integrated Circuits and Systems. Ponències/Comunicacions de congressos
Departament d'Enginyeria Electrònica. Ponències/Comunicacions de congressos
Altres. Enviament des de DRAC
Comparteix:


Stats Mostra les estadístiques d'aquest ítem

SFX Query

Tots els drets reservats. Aquesta obra està protegida pels drets de propietat intel·lectual i industrial corresponents. Sense perjudici de les exempcions legals existents, queda prohibida la seva reproducció, distribució, comunicació pública o transformació sense l'autorització del titular dels drets.

Per a qualsevol ús que se'n vulgui fer no previst a la llei, dirigiu-vos a: sepi.bupc@upc.edu

 

Valid XHTML 1.0! Programari DSpace Copyright © 2002-2004 MIT and Hewlett-Packard Comentaris
Universitat Politècnica de Catalunya. Servei de Biblioteques, Publicacions i Arxius